(19)国家知识产权局 (12)发明 专利 (10)授权公告 号 (45)授权公告日 (21)申请 号 202211190174.X (22)申请日 2022.09.28 (65)同一申请的已公布的文献号 申请公布号 CN 115270531 A (43)申请公布日 2022.11.01 (73)专利权人 国家电投集团科 学技术研究院有 限公司 地址 102209 北京市昌平区未来科技城国 家电投集团科学技术研究院有限公司 院内A座8层至1 1层 (72)发明人 宋文　杨韵颐　全国萍　余慧　 (74)专利代理 机构 北京清亦华知识产权代理事 务所(普通 合伙) 11201 专利代理师 张润(51)Int.Cl. G06F 30/20(2020.01) (56)对比文件 CN 10854975 3 A,2018.09.18 CN 10854975 3 A,2018.09.18 CN 107290770 A,2017.10.24 CN 107290769 A,2017.10.24 CN 114003856 A,2022.02.01 WO 2022117664 A1,202 2.06.09 审查员 郝宁 (54)发明名称 多辐射源屏蔽计算方法、 装置、 电子设备及 存储介质 (57)摘要 本公开提出一种多辐射源屏蔽计算方法、 装 置、 电子设备及存储介质， 包括： 确定对剂量点位 置产生辐射影响的多个辐射源； 基于多个辐射 源， 建立多辐射源几何模型； 根据多辐射源几何 模型， 计算剂量点位置处的通量和剂量率， 本公 开通过搭建多辐射源几何模型， 对多个辐射源进 行同时处理， 同时对多辐射源进行屏蔽计算， 从 而能够使得该模 型更适用于辐射源复杂的场景， 有效提升建模效率与计算效率， 保证计算结果的 准确性与客观性。 权利要求书2页 说明书10页 附图5页 CN 115270531 B 2022.12.16 CN 115270531 B 1.一种多辐射源屏蔽计算方法， 其特 征在于， 包括： 确定对剂量点位置产生辐射影响的多个辐射源， 其中， 所述剂量点位置为待进行屏蔽 计算的位置处； 基于所述多个辐射源， 建立多辐射源几何模型； 根据所述多辐射源几何模型， 计算所述剂量 点位置处的通 量和剂量 率； 所述基于所述多个辐射源， 建立多辐射源几何模型， 包括： 确定所述多个辐射源的几何信息； 根据所述几何信息， 建立多辐射源几何模型； 在所述根据所述几何信息， 建立多辐射源几何模型之后， 还 包括： 为所述多个辐射源分别选择对应的几何坐标系； 根据所述几何坐标系， 对所述辐射源进行源强离 散处理， 生成多个点源； 所述几何坐标系的种类有多种， 所述多个辐射源分别对应的几何坐标系可以相同或不 同； 所述根据所述多辐射源几何模型， 计算所述剂量 点位置处的通 量和剂量 率， 包括： 确定每一个点源至所述剂量点位置处所穿越的至少一个几何空间， 根据 所述几何空间 的组成材 料来确定每一个点源至剂量 点位置处的组成材 料； 根据所述组成材 料， 确定所述 点源与所述剂量 点位置的光学距离； 根据所述组成材 料， 计算积累因子； 根据所述光学距离与所述积累因子， 经由所述多辐射源几何模型计算， 生成所述剂量 点位置处的通 量和剂量 率； 所述根据所述组成材 料， 确定所述 点源与所述剂量 点位置的光学距离， 包括： 确定所述几何 空间内所述 点源至所述剂量 点位置的穿行距离； 根据所述组成材 料， 确定射线穿过 所述几何 空间的质量衰减系数； 根据所述至少一个几何空间所对应的质量衰减系数， 确定点源至所述剂量点位置的光 学距离。 2.一种多辐射源屏蔽计算装置， 其特 征在于， 包括： 确定模块， 用于确定对剂量点位置产生辐射影响的多个辐射源， 其中， 所述剂量点位置 为待进行屏蔽计算的位置处； 建立模块， 用于基于所述多个辐射源， 建立多辐射源几何模型； 计算模块， 用于根据所述多辐射源几何模型， 计算所述剂量 点位置处的通 量和剂量 率； 所述建立模块， 具体用于： 确定所述多个辐射源的几何信息； 根据所述几何信息， 建立多辐射源几何模型； 在所述根据所述几何信息， 建立多辐射源几何模型之后， 还 包括： 为所述多个辐射源分别选择对应的几何坐标系； 根据所述几何坐标系， 对所述辐射源进行源强离 散处理， 生成多个点源； 所述几何坐标系的种类有多种， 所述多个辐射源分别对应的几何坐标系可以相同或不 同； 所述根据所述多辐射源几何模型， 计算所述剂量 点位置处的通 量和剂量 率， 包括：权　利　要　求　书 1/2 页 2 CN 115270531 B 2确定每一个点源至所述剂量点位置处所穿越的至少一个几何空间， 根据 所述几何空间 的组成材 料来确定每一个点源至剂量 点位置处的组成材 料； 根据所述组成材 料， 确定所述 点源与所述剂量 点位置的光学距离； 根据所述组成材 料， 计算积累因子； 根据所述光学距离与所述积累因子， 经由所述多辐射源几何模型计算， 生成所述剂量 点位置处的通 量和剂量 率； 所述根据所述组成材 料， 确定所述 点源与所述剂量 点位置的光学距离， 包括： 确定所述几何 空间内所述 点源至所述剂量 点位置的穿行距离； 根据所述组成材 料， 确定射线穿过 所述几何 空间的质量衰减系数； 根据所述至少一个几何空间所对应的质量衰减系数， 确定点源至所述剂量点位置的光 学距离。 3.一种电子设备， 包括： 至少一个处 理器； 以及 与所述至少一个处 理器通信连接的存 储器； 其中， 所述存储器存储有可被所述至少一个处理器执行的指令， 所述指令被所述至少一个处 理器执行， 以使所述至少一个处 理器能够执 行权利要求1所述的多辐射源屏蔽计算方法。 4.一种存储有计算机指令的非瞬时计算机可读存储介质， 其中， 所述计算机指令用于 使所述计算机执 行权利要求1所述的多辐射源屏蔽计算方法。权　利　要　求　书 2/2 页 3 CN 115270531 B 3