(19)国家知识产权局 (12)发明 专利申请 (10)申请公布号 (43)申请公布日 (21)申请 号 202211078465.X (22)申请日 2022.09.05 (71)申请人 乐金显示 光电科技 （中国） 有限公司 地址 510530 广东省广州市高新 技术产业 开发区科 学城开泰大道59号 (72)发明人 梁铭涛　 (74)专利代理 机构 北京品源专利代理有限公司 11332 专利代理师 李彩玲 (51)Int.Cl. B08B 13/00(2006.01) H01L 51/56(2006.01) (54)发明名称 OLED模块的处理方法、 装置、 电子设备及存 储介质 (57)摘要 本发明公开了一种OLED 模块的处理方法、 装 置、 电子设备及存储介质。 该OLED模块的处理方 法包括： 在采用清洗线体对待处理OLED 模块进行 清洗时， 控制所述清洗线体的单列plasma处于开 启状态， 并对应获取所述单列plasma的初始 工艺 参数； 将所述初始工艺参数切换为目标工艺参 数， 以控制单列plasma根据所述目标工艺参数对 所述待处理OLED模块进行清洗。 本发明实现对 OLED模块的玻璃面板高效、 精准的清洗， 减少后 续玻璃面板不定斑纹或竖线不良的产生， 降低 OLED模块 生产工厂的生产成本 。 权利要求书2页 说明书11页 附图4页 CN 115446061 A 2022.12.09 CN 115446061 A 1.一种OLED模块的处 理方法， 其特 征在于， 包括： 在采用清洗线体对待 处理OLED模块进行清洗时， 控制所述清洗线体的单列plasma处于 开启状态， 并对应获取 所述单列plas ma的初始工艺 参数； 将所述初始工艺参数切换为目标工艺参数， 以控制单列plasma根据所述目标工艺参数 对所述待处 理OLED模块进行清洗 。 2.根据权利要求1所述的OLED模块的处理方法， 其特征在于， 所述单列plasma为第一 plasma或第二plasma， 所述待处理OLED模块在清洗线体的清洗流水线上依次经过所述第一 plasma和所述第二plas ma； 控制所述清洗线体的单列plasma处于开启状态， 并对应获取所述单列plasma的初始工 艺参数， 包括： 控制所述清洗线体的第一plasma处于开启状态， 第二plasma处于关闭状态， 并对应获 取所述第一plas ma的第一初始工艺 参数； 或， 控制所述清洗线体的第二plasma处于开启状态， 第一plasma处于关闭状态， 并对应获 取所述第二plas ma的第二初始工艺 参数。 3.根据权利要求2所述的OLED模块的处理方法， 其特征在于， 所述将所述初始工艺参数 切换为目标工艺 参数， 包括： 将所述第一初始工艺参数切换为第一目标工艺参数， 以控制第一plasma根据所述第一 目标工艺 参数对所述待处 理OLED模块进行清洗； 或， 将所述第二初始工艺参数切换为第二目标工艺参数， 以控制第二plasma根据所述第二 目标工艺 参数对所述待处 理OLED模块进行清洗 。 4.根据权利要求3所述的OLED模块的处理方法， 其特征在于， 在控制第一plasma根据所 述第一目标工艺 参数对所述待处 理OLED模块进行清洗之后， 还 包括： 控制所述清洗线体的第二plasma处于开启状态， 并对应获取所述第二plasma的第二初 始工艺参数， 以控制第二plasma根据所述第二初始工艺参数同时对 所述待处理OLED模块进 行清洗。 5.根据权利要求3所述的OLED模块的处理方法， 其特征在于， 在控制第二plasma根据所 述第二目标工艺 参数对所述待处 理OLED模块进行清洗之后， 还 包括： 控制所述清洗线体的第一plasma处于开启状态， 并对应获取所述第一plasma的第一初 始工艺参数， 以控制第一plasma根据所述第一初始工艺参数同时对 所述待处理OLED模块进 行清洗。 6.根据权利要求1所述的OLED模块的处理方法， 其特征在于， 所述初始工艺参数包括初 始plasma类型、 初始plasma运行功率、 初始plasma运行电压、 初始清洗线体滚筒传输速度以 及所述待处 理OLED模块与plas ma之间的初始间隙中的至少一个； 将所述初始工艺 参数切换为目标工艺 参数， 包括： 将初始plasma类型、 初始plasma运行功率、 初始plasma运行电压、 初始清洗线体滚筒传 输速度以及所述待处理OLED模块与plasma之间的初始间隙切换为目标工艺参数， 所述目标 工艺参数对应包括目标plasma类型、 目标plasma运行功率、 目标plasma运行电压、 目标清洗 线体滚筒传输 速度以及所述待处 理OLED模块与plas ma之间的目标间隙包括中的至少一个。 7.根据权利要求6所述的OLED模块的处理方法， 其特征在于， 所述初始pl asma类型为 高权　利　要　求　书 1/2 页 2 CN 115446061 A 2频输出， 所述目标plasma类型为低频输出； 所述初始plasma运行功率小于所述目标plasma 运行功率； 所述初始plasma运行电压低于所述目标plasma运行电压； 所述初始清洗线体滚 筒传输速度小于所述目标清洗线体滚筒传输速度； 所述待处理OLED模块与plasma之间的初 始间隙大于所述待处 理OLED模块与plas ma之间的目标间隙。 8.一种OLED模块的处 理装置， 其特 征在于， 包括： 工艺参数获取模块， 用于执行在采用清洗线体对待处理OLED模块进行清洗时， 控制所 述清洗线体的单列plas ma处于开启状态， 并对应获取 所述单列plas ma的初始工艺 参数； 模块清洗模块， 用于执行将所述初始工艺参数切换为目标工艺参数， 以控制单列 plasma根据所述目标工艺 参数对所述待处 理OLED模块进行清洗 。 9.一种电子设备， 其特 征在于， 所述电子设备包括： 至少一个处 理器； 以及 与所述至少一个处 理器通信连接的存 储器； 其中， 所述存储器存储有可被所述至少一个处理器执行的计算机程序， 所述计算机程序被所 述至少一个处理器执行， 以使所述至少一个处理器能够执行权利要求1 ‑7中任一项所述的 OLED模块的处 理方法。 10.一种计算机可读存储介质， 其特征在于， 所述计算机可读存储介质存储有计算机指 令， 所述计算机指令用于使处理器执行时实现权利要求1 ‑7中任一项所述的OLED模块的处 理方法。权　利　要　求　书 2/2 页 3 CN 115446061 A 3