(19)国家知识产权局 (12)发明 专利申请 (10)申请公布号 (43)申请公布日 (21)申请 号 202211233684.0 (22)申请日 2022.10.10 (71)申请人 上海中欣晶圆半导体科技有限公司 地址 200444 上海市宝山区山连路181号1 幢 (72)发明人 李传玉　 (74)专利代理 机构 上海申浩 律师事务所 31280 专利代理师 李敏 (51)Int.Cl. B08B 3/08(2006.01) B08B 3/14(2006.01) B08B 13/00(2006.01) (54)发明名称 一种SIC托盘的酸洗净装置 (57)摘要 本发明提供了一种SIC托盘的酸洗净装置， 包括清洗箱主体， 所述清洗箱主体的顶面设置有 箱盖， 清洗箱主体的底面一侧设置有排液管， 清 洗箱主体的后端面设置有循环进液管， 循环进液 管与排液管之间设置有循环过滤系统， 循环过滤 系统包括循环泵； 所述清洗箱主体内部面积大于 SIC托盘的面积。 本发明采用循环进液管与排液 管之间设置循环过滤系统， 通过循环泵将清洗箱 主体内携带杂质的液体过滤后送回清洗箱主体 内， 通过设置稍大于SIC托盘的清 洗箱主体， 减少 了清洗所用的空间， 达到了节约药品及时间的效 果， 清洗效果 好。 权利要求书1页 说明书3页 附图1页 CN 115502143 A 2022.12.23 CN 115502143 A 1.一种SIC托盘的酸洗净装置， 包括清洗箱主体(1)， 其特征在于： 所述清洗箱主体(1) 的顶面设置有箱盖(2)， 清洗箱主体(1)的底面一侧设置有排液管(7)， 清洗箱主体(1)的后 端面设置有循环进 液管， 循环进 液管与排液管(7)之间设置有循环过滤系统， 循环过滤系统 包括循环泵。 2.根据权利 要求1所述的一种SIC托盘的酸洗净装置， 其特征在于： 所述清洗箱主体(1) 内部面积大于SIC托盘的面积。 3.根据权利 要求1所述的一种SIC托盘的酸洗净装置， 其特征在于： 所述箱盖(2)的顶面 分别设置有HF进液管(4)、 纯水进液管(5)， HF进液管(4)通过第一电磁阀与HF进液管路连 接， 纯水进液管(5)通过第二电磁阀与纯水进液管路连接， 清洗箱主体(1)内设置有光纤水 位计， 光纤水位计、 第一电磁阀、 第二电磁阀均接入PLC控制器。 4.根据权利要求3所述的一种SIC托盘的酸洗净装置， 其特征在于： 所述HF进液管(4)、 纯水进液管(5)上均设置有快速接头， HF进液管路通过快速接头与HF进液管(4)连接； 纯水 进液管路通过 快速接头与纯水进液管(5)连接 。 5.根据权利要求1所述的一种SIC托盘的酸洗净装置， 其特征在于： 所述循环过滤系统 还包括第三电磁阀， 第三电磁阀接入PLC控制器， 第三电磁阀接在排液 管(7)上。 6.根据权利要求5所述的一种SIC托盘的酸洗净装置， 其特征在于： 所述循环过滤系统 还包括过滤桶， 过滤桶内设置有若干个阵列布置的过滤芯， 循环泵将从过滤芯过滤后的循 环液送入循环进液 管。 7.根据权利 要求1所述的一种SIC托盘的酸洗净装置， 其特征在于： 所述箱盖(2)的前端 面上设置有观察窗(6)。 8.根据权利 要求1所述的一种SIC托盘的酸洗净装置， 其特征在于： 所述箱盖(2)的顶面 中部设置有把手(3)。权　利　要　求　书 1/1 页 2 CN 115502143 A 2一种SIC托盘的 酸洗净装 置 技术领域 [0001]本发明涉及半导体加工领域的碳化硅(S IC)治具酸洗技术领域， 具体涉及一种S IC 托盘的酸洗净装置 。 背景技术 [0002]碳化硅(SIC)托盘的酸洗通常是在加热的条件下， 用氢氟酸HF对SIC托盘进行处 理， 主要目的是为了去除SIC托盘上的金属 铁、 氧化铁、 镁、 铝等杂质。 SIC托盘在酸洗时， 存 在以下技 术缺陷： 现有技 术的清洗设备对HF消耗大， 清洗时间长， 清洗效果差 。 [0003]因此， 如何设计一种节省HF的SIC托盘酸洗净装置， 成为急需解决的问题。 发明内容 [0004]针对现有技术存在的问题， 本 发明提供一种S IC托盘的酸洗净装置， 以解决上述至 少一种技 术问题。 [0005]本发明的技术方案是： 一种SIC托盘的酸洗净装置， 包括清洗箱主体， 所述清洗箱 主体的顶面设置有箱盖， 清洗箱主体的底面一侧设置有排液管， 清洗箱主体的后端面设置 有循环进 液管， 循环进 液管与排液管之 间设置有循环过滤系统， 循环过滤系统包括循环泵。 所述清洗箱主体内部面积大于SIC托盘的面积。 [0006]本发明采用循环进液管与排液管之间设置循环过滤系统， 通过循环泵将清洗箱主 体内携带杂质的液体过滤后送回清洗箱主体内， 通过设置稍大于SIC托盘的清洗箱主体， 减 少了清洗所用的空间， 达 到了节约药品及时间的效果， 清洗效果 好。 [0007]优选， 所述箱盖的顶面分别设置有HF进液管、 纯水进液管， HF进液管通过第一电磁 阀与HF进液管路连接， 纯水进液管通过第二电磁阀与纯水进液管路连接， 清洗箱主体内设 置有光纤水位计， 光纤水位计、 第一电磁阀、 第二电磁阀均接入PLC控制器。 [0008]本发明采用光纤水位计， 当清洗时的水位低于设定水位时， 光纤水位计向P LC控制 器发出信号， 打开第一电磁阀、 第二电磁阀， HF进液管路通过HF进液管注入HF液体， 纯水进 液管路通过纯水进液管注入纯水， 直至到达设定水位， 光纤水位计向PLC控制器发出信号， 关闭第一电磁阀、 第二电磁阀。 [0009]优选， 所述循环过滤系统还包括第三电磁阀， 第三电磁阀接入PLC控制器， 第三电 磁阀接在排液 管上。 [0010]本发明采用第三电磁阀， 当需要清洗时， 通过P LC控制器控制第三电磁阀关闭循环 过滤系统。 附图说明 [0011]图1为本发明的外 部结构示 意图。 [0012]图中： 1.清洗箱主体； 2.箱盖； 3.把手； 4.HF进液管； 5.纯水进液管； 6.观察窗； 7.排 液管。说　明　书 1/3 页 3 CN 115502143 A 3