(19)国家知识产权局 (12)发明 专利申请 (10)申请公布号 (43)申请公布日 (21)申请 号 202211213076.3 (22)申请日 2022.09.30 (71)申请人 合肥晶合 集成电路股份有限公司 地址 230012 安徽省合肥市新站区合肥综 合保税区内西淝河路8 8号 (72)发明人 余学会　刘波　陆靖　张雷　 (74)专利代理 机构 上海光华专利事务所(普通 合伙) 31219 专利代理师 苗晓娟 (51)Int.Cl. B08B 9/22(2006.01) B08B 3/12(2006.01) B08B 13/00(2006.01) (54)发明名称 一种化学气相分解试样瓶的清洗治具及清 洗装置 (57)摘要 本发明提出了一种化学气相分解试样瓶的 清洗治具及清洗装置， 属于半导体制造技术领 域， 所述清洗治具至少包括： 清洗舱； 底板， 固定 设置在所述清洗舱内， 且所述底板上设置多个限 位槽； 多个试样瓶， 多个所述试样瓶倒扣放置在 多个所述限位槽内； 盖板， 设置在所述试样瓶上， 且与所述试样瓶接触设置， 所述盖板与所述清洗 舱可拆卸连接； 多个进液孔， 设置在所述盖板和 所述底板上； 以及多个出液口， 设置在所述清洗 舱的侧壁上， 所述出液口至所述底板的距离大于 所述盖板至所述底板的距离。 本发 明提供的一种 化学气相分解试样瓶的清洗治具及 清洗装置， 能 有效提高试样瓶的清洗效果。 权利要求书1页 说明书7页 附图5页 CN 115430674 A 2022.12.06 CN 115430674 A 1.一种化学气相分解试样瓶的清洗治具， 其特 征在于， 至少包括： 清洗舱； 底板， 固定设置在所述清洗舱内， 且所述底板上设置多个限位槽； 多个试样瓶， 多个所述试样瓶倒扣放置在多个所述限位槽内； 盖板， 设置在所述试样瓶上， 且与所述试样瓶接触设置， 所述盖板与所述清洗舱可拆卸 连接； 多个进液孔， 设置在所述盖 板和所述底板上； 以及 多个出液口， 设置在所述清洗舱的侧壁上， 所述出液口至所述底板的距离大于所述盖 板至所述底板的距离 。 2.根据权利要求1所述的一种化学气相分解试样瓶的清洗治具， 其特征在于， 所述清洗 舱侧壁上设置多个通 孔， 多个所述 通孔设置在所述盖 板与所述出 液口之间。 3.根据权利要求2所述的一种化学气相分解试样瓶的清洗治具， 其特征在于， 所述清洗 舱外侧壁上还设置凸出部， 所述凸出部至所述底板的距离小于所述通孔至所述底板的距 离。 4.根据权利要求3所述的一种化学气相分解试样瓶的清洗治具， 其特征在于， 所述盖板 上设置多个卡扣， 多个所述 卡扣通过 所述通孔与所述凸出部可拆卸连接 。 5.根据权利要求1所述的一种化学气相分解试样瓶的清洗治具， 其特征在于， 所述盖板 的尺寸为所述清洗舱尺寸的3 /4‑5/6。 6.根据权利要求1所述的一种化学气相分解试样瓶的清洗治具， 其特征在于， 所述清洗 治具还包括进 液管道， 所述进 液管道依次通过所述盖板上的所述进液孔和所述底板上的所 述进液孔， 并延伸至所述清洗舱的底部 。 7.根据权利要求1所述的一种化学气相分解试样瓶的清洗治具， 其特征在于， 所述限位 槽上设有开口， 所述 开口的内径大于或等于所述试样瓶的内径。 8.根据权利要求1所述的一种化学气相分解试样瓶的清洗治具， 其特征在于， 所述底板 和所述盖 板上设置多个渗液孔， 所述 渗液孔的尺寸小于所述试样瓶的尺寸。 9.一种化学气相分解试样瓶的清洗装置， 其特 征在于， 至少包括： 蓄水池， 所述蓄水池内设有支 架； 超声单元， 设置在所述蓄水池的内侧壁上； 以及 清洗治具， 设置在所述支 架上， 且所述清洗治具包括： 底板， 固定设置在所述清洗舱内， 且所述底板上设置多个限位槽； 试样瓶， 所述试样瓶倒扣放置在所述限位槽内； 盖板， 设置在所述试样瓶上， 且与所述试样瓶接触设置， 所述盖板与所述清洗舱可拆卸 连接； 多个进液孔， 设置在所述盖 板和所述底板上； 以及 多个出液口， 设置在所述清洗舱的侧壁上， 所述出液口至所述底板的距离大于所述盖 板至所述底板的距离 。 10.根据权利要求9所述的一种化学气相分解试样瓶的清洗装置， 其特征在于， 所述清 洗治具还 包括凸出部， 所述清洗治具通过 所述凸出部悬空设置在所述支 架上。权　利　要　求　书 1/1 页 2 CN 115430674 A 2一种化学气相分解试样瓶 的清洗治 具及清洗装 置 技术领域 [0001]本发明涉及半导体制造技术领域， 具体涉及一种化学气相分解试样瓶的清洗治具 及清洗装置 。 背景技术 [0002]在对晶圆表面金属污染进行分析时， 采用化学气相分解(Vapor  Phase  Decomposition， VPD)和电感耦合等离子体质谱仪(Inductively  Coupled Plasma Mass  Spectrometry， ICPMS)联用进行测试， VPD室采集的样品通过每一个小试样瓶(vial)收集， 再需工作人员手动将ICP MS进样管线放置于vial内进行样品分析。 其中， vial是非一次性用 品， 测试完样品后， 测试人员需将多个vial进行分别清洗， vial因直接接触样品需进 行多次 清洗， 在清洗过程中耗费大量人力和时间。 若vial清洗不干净， 会导致vial内残留有 金属污 染物， 影响晶圆表面金属污染物的测试 结果准确性， 进一 步影响晶圆的质量。 发明内容 [0003]本发明提出了一种化学气相分解试样瓶的清洗治具及清洗装置， 可批次清洗试样 瓶， 提高试样瓶的清洗质量和清洗效率， 节约人力成本， 同时降低试样瓶清洗不干净对晶圆 造成的不良影响。 [0004]为解决上述 技术问题， 本发明是通过如下的技 术方案实现的： [0005]本发明提出一种化学气相分解试样瓶的清洗治具， 所述清洗治具至少包括： [0006]清洗舱； [0007]底板， 固定设置在所述清洗舱内， 且所述底板上设置多个限位槽； [0008]多个试样瓶， 多个所述试样瓶倒扣放置在多个所述限位槽内； [0009]盖板， 设置在所述试样瓶上， 且与所述试样瓶接触设置， 所述盖板与所述清洗舱可 拆卸连接； [0010]多个进液孔， 设置在所述盖 板和所述底板上； 以及 [0011]多个出液口， 设置在所述清洗舱的侧壁上， 所述出液口至所述底板 的距离大于所 述盖板至所述底板的距离 。 [0012]在本发明一实施例中， 所述清洗舱侧壁上设置多个通孔， 多个所述通孔设置在所 述盖板与所述出 液口之间。 [0013]在本发明一实施例中， 所述清洗舱外侧壁上还设置有凸出部， 所述凸出部至所述 底板的距离小于所述 通孔至所述底板的距离 。 [0014]在本发明一实施例中， 所述盖板上设置多个卡扣， 多个所述卡扣通过所述通孔与 所述凸出部可拆卸连接 。 [0015]在本发明一实施例中， 所述盖 板的尺寸 为所述清洗舱尺寸的3 /4‑5/6。 [0016]在本发明一实施例中， 所述清洗治具还包括进液管道， 所述进液管道依次通过所 述盖板上的所述进液孔和所述底板上的所述进液孔， 并延伸至所述清洗舱的底部 。说　明　书 1/7 页 3 CN 115430674 A 3