(19)国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告 号 (45)授权公告日 (21)申请 号 202221208614.5 (22)申请日 2022.05.19 (73)专利权人 深圳市标谱半导体科技有限公司 地址 518000 广东省深圳市宝安区航城街 道三围社区内环路同富裕工业园茶树 A栋1层、 2层、 3层、 5层、 7层、 8层 (72)发明人 段雄斌　陈泽江　周英才　何选民　 (74)专利代理 机构 深圳中一联合知识产权代理 有限公司 4 4414 专利代理师 贺鹏 (51)Int.Cl. G01N 33/00(2006.01) G01N 21/84(2006.01) G01N 21/01(2006.01) (54)实用新型名称 定位机构及检测设备 (57)摘要 本申请提供了一种定位机构及检测设备， 该 定位机构 包括转盘， 用于支撑产品； 驱动组件， 与 转盘连接； 定位座， 与转盘间隔设置； 静电发生 器， 安装于定位座上并设于转盘的下方； 吸嘴座， 安装于定位座上并设于转盘的上方； 真空发生 器， 安装于定位座上并与 吸嘴座连接。 本申请通 过转盘可实现对产品的支撑， 驱动组件驱动转盘 转动的同时， 产品和转盘可实现同步匀速转动。 位于转盘下方的静电发生器可通过静电吸附产 品， 位于转盘上方的吸嘴座在真空发生器的作用 下可吸附并校正产品。 因此， 本申请通过静电发 生器和吸嘴座的双重吸附， 以及吸嘴座对产品的 校正， 产品的校正定位效果好， 有效提高检测设 备对产品的检测效果。 权利要求书1页 说明书6页 附图5页 CN 217443305 U 2022.09.16 CN 217443305 U 1.定位机构， 其特 征在于， 包括： 转盘， 用于支撑产品； 驱动组件， 与所述 转盘连接， 用于驱动所述 转盘转动； 定位座， 与所述 转盘间隔设置； 静电发生器， 安装于 定位座上并设于所述 转盘的下 方， 用于静电吸附所述产品； 吸嘴座， 安装于所述定位 座上并设于所述 转盘的上 方， 用于吸附并校正所述产品； 真空发生器， 安装于所述定位 座上并与所述吸 嘴座连接 。 2.如权利要求1所述的定位机构， 其特征在于： 所述定位机构还包括连接所述吸嘴座与 所述真空发生器的导管； 所述吸嘴座上开设有负压通道， 所述导管 的一端与所述负压通道 的抽气端连通， 所述 导管的另一端与所述真空发生器连接 。 3.如权利要求2所述的定位机构， 其特征在于： 所述定位机构还包括安装于所述导管上 的过滤器。 4.如权利要求1所述的定位机构， 其特征在于： 所述吸嘴座具有与所述产品抵接的抵接 面， 所述抵 接面倾斜于所述 转盘所在的平面。 5.如权利要求2所述的定位机构， 其特征在于： 所述负压通道的吸气端设于所述吸嘴座 面向所述转盘的侧面上， 所述吸嘴座与所述转盘间隔形成与所述负压通道连通的吸附通 道。 6.如权利要求5所述的定位机构， 其特征在于： 所述吸嘴座面向所述转盘的侧面上开设 有凹槽， 所述负压通道的吸气端伸入所述凹槽中。 7.如权利要求1 ‑6任一项所述的定位机构， 其特征在于： 所述吸嘴座上开设有第 一安装 孔， 所述第一安装孔中安装有锁紧件； 所述定位座对应于所述第一安装孔的位置开设有第 二安装孔， 所述锁紧件穿过 所述第一 安装孔并锁紧于所述第二 安装孔中。 8.如权利要求1 ‑6任一项所述的定位机构， 其特征在于： 所述定位座包括分别支撑所述 静电发生器和所述吸嘴座的支撑座、 用于调节所述支撑座的位置的方位调节组件和支撑所 述方位调节组件的底座， 所述方位调节组件与所述支撑座连接， 所述真空发生器安装于所 述底座上。 9.如权利要求8所述的定位机构， 其特征在于： 所述方位调节组件包括用于驱动所述支 撑座横向移动的横移单元和用于驱动所述支撑座 纵向移动的纵移单元， 所述 纵移单元安装 于所述底座上， 所述横移单 元安装于所述纵移单 元上， 所述支撑座 安装于所述横移单 元上。 10.检测设备， 其特 征在于： 包括如权利要求1 ‑9任一项所述的定位机构。权　利　要　求　书 1/1 页 2 CN 217443305 U 2定位机构及检测设 备 技术领域 [0001]本申请属于检测技术领域， 更具体地说， 是涉及一种定位机构及使用该定位机构 的检测设备。 背景技术 [0002]在对产品进行检测 之前， 需要通过定位机构对产品进行校正定位， 以提高产品的 位置精度， 从而提高检测机构对产品的检测效果。 目前对于产品的定位通常是在转盘上环 型阵列开设多个负压通道， 通过各负压通道内的负压实现对产品的吸附固定。 然而， 通过负 压通道对产品的校正定位效果差， 以致检测设备对产品的检测效果差 。 实用新型内容 [0003]本申请实施例的目的在于提供一种定位机构及检测设备， 以解决相关技术中存在 的： 通过负压通道对产品的校正定位效果差， 以致检测设备对产品的检测效果差的问题。 [0004]为实现上述目的， 本申请实施例采用的技 术方案是： [0005]一方面， 提供一种定位机构， 包括： [0006]转盘， 用于支撑产品； [0007]驱动组件， 与所述 转盘连接， 用于驱动所述 转盘转动； [0008]定位座， 与所述 转盘间隔设置； [0009]静电发生器， 安装于 定位座上并设于所述 转盘的下 方， 用于静电吸附所述产品； [0010]吸嘴座， 安装于所述定位 座上并设于所述 转盘的上 方， 用于吸附并校正所述产品； [0011]真空发生器， 安装于所述定位 座上并与所述吸 嘴座连接 。 [0012]在一个实施例中， 所述定位机构还包括连接所述吸嘴座与所述真空发生器的导 管； 所述吸嘴座上开设有负 压通道， 所述导管的一端与所述负压通道的抽气端连通， 所述导 管的另一端与所述真空发生器连接 。 [0013]此结构， 真空发生器产生的负压可通过导管作用于负压通道， 负压通道的吸气端 可将产品吸附并校正。 [0014]在一个实施例中， 所述定位机构还 包括安装于所述 导管上的过滤器。 [0015]此结构， 通过过滤器可将导管中的杂质吸附， 避免杂质进入真空发生器中而造成 损伤。 [0016]在一个实施例中， 所述吸嘴座具有与所述产品抵接 的抵接面， 所述抵接面倾斜于 所述转盘所在的平面。 [0017]此结构， 通过抵 接面与产品的抵 接， 可对产品的平整度进行调节。 [0018]在一个实施例中， 所述负压通道的吸气端设于所述吸嘴座面向所述转盘的侧面 上， 所述吸 嘴座与所述 转盘间隔形成与所述负压通道连通的吸附通道。 [0019]此结构， 负压通道形成负压并作用于吸附通道时， 由于吸附通道与产品的接触面 积大， 从而可提高对产品的定位校正效果。说　明　书 1/6 页 3 CN 217443305 U 3