(19)国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告 号 (45)授权公告日 (21)申请 号 202222420197.7 (22)申请日 2022.09.13 (73)专利权人 成都青洋电子材 料有限公司 地址 611200 四川省成 都市崇州经济开发 区同心路 (72)发明人 代刚　贾涛　傅昭林　 (74)专利代理 机构 成都金英专利代理事务所 (普通合伙) 51218 专利代理师 袁国君 (51)Int.Cl. B08B 3/12(2006.01) B08B 3/08(2006.01) B08B 13/00(2006.01) H01L 21/67(2006.01) H01L 21/677(2006.01) (54)实用新型名称 一种硅片清洗转送装置 (57)摘要 本实用新型公开了一种硅片清洗转送装置， 包括清洗机构， 所述清洗机构 包括碱清洗池 （2） 、 超声波清洗池 （3） 、 清水池 （4） 和烘干箱 （5） ， 所述 碱清洗池 （2） 、 超声波清 洗池 （3） 、 清水池 （4） 和烘 干箱 （5） 依次设置在底座 （6） 上， 所述底座 （6） 上 设置有可移动的转送机构， 所述转送机构将硅片 依次送入碱清洗池 （2） 、 超声波清洗池 （3） 、 清水 池 （4） 和烘干箱 （5） 中， 完成硅片的清洗与转送。 本实用新型结构简单， 操作方便， 可极大程度上 提升硅片清洗转送的效率。 权利要求书1页 说明书3页 附图4页 CN 218133725 U 2022.12.27 CN 218133725 U 1.一种硅片清洗转送装置， 其特征在于， 包括清洗机构， 所述清洗机构包括碱清洗池 （2） 、 超声波清洗池 （3） 、 清水池 （4） 和烘干箱 （5） ， 所述碱清洗池 （2） 、 超声波清洗池 （3） 、 清水 池 （4） 和烘干箱 （5） 依次设置在底座 （6） 上， 所述底座 （6） 上设置有可移动的转送机构， 所述 转送机构将 硅片依次送入碱清洗池 （2） 、 超声波清洗池 （3） 、 清水池 （4） 和烘干箱 （5） 中， 完成 硅片的清洗与转送。 2.如权利要求1所述的一种硅片清洗转送装置， 其特征在于， 所述转送机构包括滑轨 （8） 和机械手 （1） ， 所述滑轨 （8） 设置于底座 （6） 上， 所述机械手 （1） 设置于滑轨 （8） 上， 并沿滑 轨 （8） 移动。 3.如权利要求1所述的一种硅片清洗转送装置， 其特征在于， 所述碱清洗池 （2） 上设置 有密封盖 （7） ， 所述密封 盖 （7） 与碱清洗池 （2） 的边 缘设置有密封胶圈 （1 1） 。 4.如权利要求3所述的一种硅片清洗转送装置， 其特征在于， 所述密封盖 （7） 上设置有 提拉把手 （10） 和贯穿密封盖 （7） 的孔洞， 所述孔洞中设置有导气管 （9） ， 所述导气管 （9） 连接 抽气泵， 所述抽气泵与废气处 理器相连接 。 5.如权利要求3所述的一种硅片清洗转送装置， 其特征在于， 所述碱清洗池 （2） 的内壁 由耐腐蚀材 料制成。 6.如权利要求1所述的一种硅片清洗转送装置， 其特征在于， 所述超声波清洗池 （3） 中 设置有超声 波清洗装置 。 7.如权利要求2所述的一种硅片清洗转送装置， 其特征在于， 所述转送机构还包括用以 转送硅片的分隔栏 （12） ， 所述分隔栏 （12） 上设置有把手和挡片 （13） 。 8.如权利要求7所述的一种硅片清洗转送装置， 其特征在于， 所述分隔栏 （12） 的侧壁和 底部均设置有 多个透水孔 （14） 。 9.如权利要求1所述的一种硅片清洗转送装置， 其特征在于， 所述烘干箱 （5） 包括鼓风 机和加热丝， 所述鼓风机设置于烘干箱 （5） 的外侧， 鼓风机出风口正对加热丝， 所述加热丝 设置于烘干箱 （5） 的侧壁上。权　利　要　求　书 1/1 页 2 CN 218133725 U 2一种硅片清洗转送装 置 技术领域 [0001]本实用新型 涉及硅片处 理技术领域， 尤其涉及一种硅片清洗转送装置 。 背景技术 [0002]半导体器件生产中硅片须经严格清洗， 微量污染也会导致器件失效。 清洗 的目的 在于清除表面污染杂质， 包括有机物和无机物。 这些杂质有的以原子状态或离子状态， 有的 以薄膜形式或颗粒形式存在于硅片表面。 会导致各种缺陷， 清除污染的方法有物理清洗和 化学清洗 两种。 [0003]本申请人发现 现有技术至少存在以下技 术问题： [0004]在现有技术中硅片处理都只是将硅片进行清洗， 有的加工厂甚至没有实现自动 化， 运送都是靠工人手动搬运， 这就导致很多硅片破碎， 导致良品率下降， 另外也有很多厂 家将硅片不烘干就进 行使用， 或者依靠自然晾干， 这样在用水问题上就会出现问题， 晾干时 间过长会导 致生产周期加长 。 实用新型内容 [0005]本实用新型的目的在于提供一种硅片清洗转送装置， 以解决现有技术中硅片不好 搬运、 良品率低和因晾干水分导 致的生产周期过长的技 术问题。 [0006]本实用新型的目的是采用以下技术方案实现的： 一种硅片清洗转送装置， 包括清 洗机构， 所述清洗机构包括碱清洗池、 超声波清洗池、 清水池和烘干箱， 所述碱清洗池、 超声 波清洗池、 清水池和烘干箱依次设置在底座上， 所述底座上设置有 可移动的转送机构， 所述 转送机构将硅片依次送入碱清洗池、 超声波清洗池、 清水池和烘干箱中， 完成硅片的清洗与 转送。 [0007]进一步的， 所述转送机构包括滑轨和机械手， 所述滑轨设置于底座上， 所述机械手 设置于滑轨上， 并沿滑轨移动。 [0008]进一步的， 所述碱清洗池上设置有密封盖， 所述密封盖与碱清洗池的边缘设置有 密封胶圈。 [0009]进一步的， 所述密封盖上设置有提拉把手和贯穿密封盖 的孔洞， 所述孔洞中设置 有导气管， 所述 导气管连接抽气泵， 所述抽气泵与废气处 理器相连接 。 [0010]进一步的， 所述碱清洗池的内壁由耐腐蚀材 料制成。 [0011]进一步的， 所述超声 波清洗池中设置有超声 波清洗装置 。 [0012]进一步的， 所述转送机构还包括用以转送硅片的分隔栏， 所述分隔栏上设置有把 手和挡片。 [0013]进一步的， 所述分隔栏的侧壁和底部均设置有 多个透水孔。 [0014]进一步的， 所述烘干箱包括鼓风机和加热丝， 所述鼓风机设置于烘干箱的外侧， 鼓 风机出风口正对加热丝， 所述加热丝设置 于烘干箱的侧壁上。 [0015]本实用新型的有益效果在于： 本实用新型将处理好的硅片按照流程清洗烘干， 机说　明　书 1/3 页 3 CN 218133725 U 3