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ICS._31.030 L 97 GP 中华人民共和国国家标准 GB/T 158701995 硬面光掩模用铬薄膜 Chrome thin films for hard surface photomasks 1995-12-22发布 1996-08-01实施 国家技术监督局发布 GB/T15870—1995 前 言 本标准非等效采用SEMI标准Semip2一86《硬面光掩模用铬薄膜》。本标准第4章“要求”中4.6按 Semip2--86《硬面光掩模用铬薄膜》制定，其余均按我国国情制定。 本标准对国家标准GB7237一87《铬版》中3.2的内容进行补充。与GB7237中3.2的重要技术改 变之处为：增加磁溅射方法制作的铬膜有关技术指标。 本标准由中华人民共和国电子工业部提出。 本标准由电子工业部标准化研究所归口。 本标准起草单位：长沙韶光微电子总公司、电子工业部标准化研究所。 本标准主要起草人：吴保华、王亦林、赵雨生、谈仁良。

.pdf文档 GB-T 15870-1995 硬面光掩模用铬薄膜

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