ICS 23.160 J 57 T/ZZB 1790 —2020 铜铟镓硒太阳能电池薄膜溅射沉积设备 Sputter equipment for Cu-In-Ga-Se thin film solar cells 2020 - 11 - 06 发布 2020 - 11-30 实施 浙江省品牌建设联合会 发布 团体标准 T/ZZB 1790 —2020 I 目 次 前言 ............................................................ .................... II   1 范围 .............................................................................. 1   2 规范性引 用文件 .................................................................... 1   3 术语和定义 ....................................................... ................. 1   4 结构与使 用环境 .................................................................... 1   5 基本要求 ........................................................ .................. 2   6 技术要求 ........................................................ .................. 3   7 试验方法 ........................................................ .................. 4   8 检验规则 ........................................................ .................. 5   9 标志、包 装、运输和贮存 ............................................................ 5   10 质量承诺 ....................................................... .................. 6   T/ZZB 1790 —2020 II 前 言 本标准依据GB/T 1.1给出的规则起草。 本标准的某些内容可能涉及专利，本标准的发布机构不承担识别这些专利的责任。 本标准由浙江省品牌建设联合会提出并归口管理。 本标准由浙江方正轻纺机械检测中心有限公司牵头组织制定。 本标准主要起草单位：浙江上方电子装备有限公司。 本标准参与起草单位（排名不分）：浙江方正轻纺机械检测中心有限公司、慈溪市长信真空设备厂 （普通合伙）。 本标准主要起草人：来华杭、周海龙、蔡好、袁海萍、洪东、陈敏、虞跃华、王晨、姚亮。 本标准评审专家组长：蒋建平。 本标准由浙江方正轻纺机械检测中心有限公司负责解释。 T/ZZB 1790 —2020 1 铜铟镓硒太阳能电池薄膜溅射沉积设备 1 范围 本文件规定了铜铟镓硒太阳能电池薄膜溅射沉积设备的术语和定义、结构与使用环境、基本要求、 技术要求、试验方法、检验规则、标志、包装、运输和贮存及质量承诺。 本文件适用于铜铟镓硒太阳能电池薄膜溅射沉积设备（以下简称“设备”）。 2 规范性引用文件 下列文件对于本文件的应用是必不可少的。 凡是注日期的引用文件， 仅注日期的版本适用于本文件。 凡是不注日期的引用文件，其最新版本（包括所有的修改单）适用于本文件。 GB/T 191 包装储运图示标志 GB/T 3077 合金结构钢 GB/T 3136 真空技术 术语 GB/T 5226.1—2019 机械电气安全 机械电气设备 第1部分：通用技术条件 GB/T 9969.1 工业产品使用说明书编写规则 GB/T 13306 标牌 GB/T 13384 机电产品包装通用技术条件 GB/T 17248.3 声学 机器和设备发射的噪声 采用近似环境修正测定工作位置和其他指定位置 的发射声压级 GB/T 18680 液晶显示器用氧化铟锡透明导电玻璃 JB/T 8945 真空溅射镀膜设备 3 术语和定义 GB/T 3136界定的术语和定义适用于本文件。 4 结构与使用环境 4.1 结构组成 设备由进片单元、磁控溅射镀膜系统（PVD）、出片单元及电气控制系统组成，结构示意图见图1。 T/ZZB 1790 —2020 2 图1 结构示意图 4.2 使用环境 使用环境按照以下范围： a) 工作环境温度范围应为 10 ℃～40 ℃； b) 相对湿度应不大于 60 %； c) 冷却水流量应不小于 50 m3/h； d) 冷却水进口温度应为 17 ℃～23 ℃； e) 冷却水进水压力应为 0.5 MPa～0.7 MPa； f) 冷却水回水压力应不大于 0.05MPa； g) 压缩空气流量应不小于 200 m3/h； h) 压缩空气压力应为 0.5 MPa～0.7 MPa； i) 供电电源电压应为三相五线式 380 V～400 V，不小于 500 KVA； j) 供电电源频率应为 50 Hz～60 Hz。 5 基本要求 5.1 设计研发 5.1.1 应采用计算机三维辅助设计软件，对设备结构及外观进行优化设计。 5.1.2 应采用模块化设计。 5.1.3 应建立工艺参数验证平台。 5.1.4 应建立与设备配套的软件操作系统。 5.2 原材料和零部件 5.2.1 靶材利用率应不小于 70 %，靶材为钼、氧化锌等。 5.2.2 设备零部件的耐腐蚀性能应不低于 304 不锈钢要求。 5.3 工艺装备 5.3.1 磁控溅射镀膜系统腔体应采用 304不锈钢板或更优材质的不锈钢板，符合 GB/T 3077 规定。 5.3.2 应配置前级粗抽泵组和分子泵，保证沉积室极限真空度应不大于 5×10 -4 Pa。 5.3.3 配置低、高真空真空规及控制显示单元，测量并监控设备的真空度。 5.3.4 配置的电源波动范围应不大于±5 %。 5.3.5 配置的气体流量计，应保证工艺气体所需的流量（0～3 000 sccm 可控）。 5.3.6 每个工艺模块应配置压力测试装置。 5.3.7 应配置旋转阴极磁控溅射镀膜源。 进片单元 磁控溅射镀膜系统（PVD） 出片单元 T/ZZB 1790 —2020 3 5.3.8 特殊工艺条件下，还应配置气隔离装置。 5.3.9 应配置独立控制的气体入口及气体分布系统。 5.3.10 设备出口应配置基板冷却装置，出片温度应低于 50 ℃。 5.4 检验检测 5.4.1 应配备三坐标测量仪等检测设备对旋转阴极零部件的机械性能等项目进行检测。 5.4.2 应配备台阶仪、椭偏仪、电阻率测试仪等检测设备对表面粗糙度、膜厚、导电性等薄膜性能项 目进行检测。 5.4.3 应配备检漏仪等检测设备对气密封性能等项目进行检测。 6 技术要求 6.1 外观要求 6.1.1 设备外表不应有裂纹、凹陷、毛刺等缺陷。 6.1.2 焊接件的焊缝上应无焊渣、溅粒。 6.1.3 设备零部件的结合面应整齐一致，不应有明显错位。 6.1.4 外露部分防锈涂层应均匀连续，不应有粗糙不平、漏涂、起泡、渗色、起皱、针孔、发白、流 挂等缺陷。 6.2 整机性能 6.2.1 整机运行应平稳，无异常振动及异常噪音。 6.2.2 箱体、管路连接处应密封，不得有漏水、漏气现象，并应能测量和显示内部水过滤器两端的压 差。 6.2.3 真空泵、转动轴、传动链轮、滚轮、传动器、刮板传动链安装后应转动灵活。 6.2.4 整机噪声应不大于 85 dB(A)。 6.2.5 各紧固件应连接可靠，牢固。 6.2.6 气动系统及电气系统应灵活、准确、可靠。 6.2.7 设备的节拍、连续无故障工作时间应达到设计要求。 6.2.8 设备具备电机参数、镀膜速度、加热腔速度、加热温度、高真空数据、低真空数据等数据设置 和监控的功能。 6.3 镀膜要求 6.3.1 生产节拍应不大于 90 s。 6.3.2 极限压力应不大于 5×10-4 Pa。 6.3.3 镀膜基板尺寸应不小于 500 mm×1 000 mm。 6.3.4 镀膜基板厚度应为 0.4 mm～1 mm。 6.3.5 膜层厚度应为 10 nm～1 000 nm。 6.3.6 膜层厚度均匀性应不大于 5 %。 6.4 设备安全 6.4.1 电气设备的连接和布线，应符合 GB/T 5226.1—2019 中13.1的规定。 6.4.2 电气设备的导线标识，应符合 GB/T 5226.1—2019 中13.2 的规定。 T/ZZB 1790 —2020 4 6.4.3 电气设备的保护联结电路的连续性，应符合 GB/T 5226.1—2019 中18.2.2 的规定。 6.4.4 电气设备